Wechselwirkung mit Materie

Mit dem im Abschnitt EUV-Optiken vorgestellten integrierten EUV-Strahlführungssystem wurden Anwendungsuntersuchungen zur Wechselwirkung zwischen gepulster EUV-Strahlung und Materie mit dem Ziel der höchstauflösenden Direktstrukturierung durchgeführt. Dazu gehören Untersuchungen zur Farbzentrenbildung in LiF, zur photoinduzierten Ablation an Polymeren (z.B. PMMA) sowie die Ermittlung der Sensitivität von Photolacken für den EUV-Bereich.>

 

Weiterführende Informationen:

F. Barkusky, C. Peth, K. Mann, T. Feigl, N. Kaiser:
 "Formation and Direct Writing of Color Centers in LiF using a Laser-Induced Extreme Ultraviolet Plasma in Combination With a Schwarzschild Objective", Rev. Sci. Instr., 76, 105102, 2005

F. Barkusky, C. Peth, A. Bayer, K. Mann: 
"Direct Photo-Etching of PMMA Using Focused Extreme Ultraviolet Radiation From a Table-top Laser-Induced Plasma Source", J. Appl. Phys., 101, 124908, 2007

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Laser-Laboratorium Göttingen e.V. (LLG)

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"Optik / Kurze Wellenlängen"

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