EUV-Optiken

Zur Erzeugung hoher Energiedichten im EUV-Bereich wurde im Rahmen des BMBF-Verbundprojekts KOMPASS „Kompakte Strahlquelle hoher Brillanz für den weichen Röntgen-Spektralbereich“ ein Schwarzschild-Objektiv für die EUV-Quelle entwickelt. Diese Optik besteht aus zwei sphärischen Spiegeln (Substrat: ULE), die durch Beschichtung mit Mo/Si-Multilayern (Fraunhofer IOF) eine Reflektivität von nahezu 70 % pro Spiegel erreichen. Die numerische Apertur des Objektes beträgt 0,44, die Verkleinerung 10x. Der resultierende EUV-Fokus hat einen Durchmesser von < 30 µm mit einer Energiedichte von ~ 100 mJ/cm2.

Vergrößerung (M)0.102
Fokusgröße~ 30 µm
NA0.44
Akzeptanzwinkel (Ω)5.33 msr
SubstrateULE Glass
Reflectivität eines Mo/Si Multilayers (R)> 65 % (per mirror / IOF)

 

 

Durch die Mo/Si-Multilayer Beschichtung reflektiert das Schwarzschild-Objektiv nur in einem schmalen Spektralbereich um 13,5 nm. Unter Ausnutzung von Totalreflexionen unter streifendem Einfall ist demgegenüber eine breitbandige Strahlführung möglich. Im InnoNet-Projekt SpeXUV wurde eine Kirkpatrick-Baez-Anordnung aufgebaut (s. Abbildung 2), die als breitbandiger Kondensor in einem Spektralphotometer für den Bereich 10…20 nm eingesetzt wird. Die Spezifikationen sind in Tabelle 2 zusammengefasst.

Auflösung< 10 µm (1:1-Abbildung)
NA0.007
Transmission (entspr. zweifacher Refl.)> 65 % (> 81 % pro Spiegel)

 

Weiterführende Informationen:

Produktflyer EUV-Optiken (PDF)

 

 

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