Phasenmasken und dielektrische Masken

Phasenmasken wirken im Idealfall nur auf die Phase und nicht die Amplitude des durchtretenden Lichts und sind somit verlustärmer als Amplitudenmasken. UV-transparente Phasenmasken aus SiO2 werden nach einem patentierten Verfahren durch Laserablation kundenspezifisch gefertigt. Insbesondere Masken mit mittleren Strukturgrößen im Bereich von 10 µm bis zu einigen 100 µm, die beispielsweise als diffraktive Strahlteiler oder als Projektionsmasken für verkleinernde Abbildungen eingesetzt werden sollen, sind mit diesem Verfahren herstellbar. Sie werden für die jeweilige Anwendungswellenlänge, die im Bereich von 193 nm bis zum nahen Infrarot liegen kann, optimiert.

 

Als dielektrische Masken werden strukturierte reflektierende dielektrische Schichtsysteme auf transparenten Substraten bezeichnet. Es sind somit Amplitudenmasken, die aus Bereichen mit unterschiedlicher Transmission, im Extremfall 0 und 1 bestehen. Derartige Masken können durch ablative Strukturierung von optischen Schichtstapeln kundenspezifisch hergestellt werden. Aufgrund der im Vergleich zu konventionellen Chrom-Masken deutlich erhöhten Strahlungsfestigkeit werden sie vorwiegend in Hochleistungsanwendungen (Lasermaterialbearbeitung) eingesetzt.

 

Weiterführende Information:

Link zu Flyer:
Fused silica phase masks

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