EUV-/XUV-Laborlichtquelle

Das EUV-Plasma wird durch die Fokussierung eines Nd:YAG-Lasers (1064 nm, 700 mJ, 6 ns) in einen gepulsten Gasstrom (Xenon, Sauerstoff) gezündet. Die Quelle liefert Pulsenergien von ca. 4 mJ bei 13,5 nm und Wiederholfrequenzen von 1 … 10 Hz.

Hauptmerkmal ist die kompakte Bauweise, die Experimente mit EUV-Strahlung in jedem Labor zulässt. Durch angepasste Düsengeometrien kann eine Effizienz von bis zu 0,45 % erreicht werden (s. auch Leistungsmerkmale in Tabelle 1).

Wellenlänge (Xe):	2…40 nm
Plasmadurchmesser:	300 µm
Pulslänge:	6 ns
Wiederholungsrate:	1…10 Hz
Konversionseffizienz (Xe):	0,45 %
EUV-Photonen/Puls:	2,4×10^14
Pulsenergie:	4,0 mJ(4PI sr, 2 %BW)

Tabelle 1: Leistungsmerkmale der TableTop-EUV -Quelle

Vorteile:

kompakter Aufbau
kontinuierliche Zufuhr des Targetmaterials
geringe Partikelemission (Debris)
geringer Gasverbrauch

: Links: TableTop-EUV-Quelle und Lochkamerabild eines EUV-Plasmas (mitte); rechts: Spektren der Quelle für unterschiedliche Targetgase (unten: Wasserfenster, oben: EUV-Bereich).