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Abteilungen > Optik / Kurze Wellenlängen > EUV-Strahlung | ![]() |
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EUV-OptikenZur Erzeugung hoher Energiedichten im EUV-Bereich wurde im Rahmen des BMBF-Verbundprojekts KOMPASS „Kompakte Strahlquelle hoher Brillanz für den weichen Röntgen-Spektralbereich“ ein Schwarzschild-Objektiv für die EUV-Quelle entwickelt. Diese Optik besteht aus zwei sphärischen Spiegeln (Substrat: ULE), die durch Beschichtung mit Mo/Si-Multilayern (Fraunhofer IOF) eine Reflektivität nahezu 70 % pro Spiegel erreichen. Die numerische Apertur des Objektes beträgt 0,44, die Verkleinerung 10x. Der resultierende EUV-Fokus hat einen Durchmesser von < 30 µm mit einer Energiedichte von ~ 100 mJ/cm2 (s. auch Tabelle 1).
Tabelle 1: Charakteristische Parameter des EUV-Schwarzschild-Objektivs
Durch die Mo/Si-Multilayer Beschichtung reflektiert das Schwarzschild-Objektiv nur in einem schmalen Spektralbereich um 13,5 nm. Unter Ausnutzung von Totalreflexionen unter streifendem Einfall ist demgegenüber eine breitbandige Strahlführung möglich. Im InnoNet-Projekt SpeXUV wurde eine Kirkpatrick-Baez-Anordnung aufgebaut (s. Abbildung 2), die als breitbandiger Kondensor in einem Spektralphotometer für den Bereich 10…20 nm eingesetzt wird. Die Spezifikationen sind in Tabelle 2 zusammengefasst.
Tabelle 2: Spezifikationen des Kirkpatrick-Baez Kondensors
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Ansprechpartner: Dr. Armin Bayer Dr. Klaus Mann |
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