EUV-Strahlung

In der Optikgruppe des LLG werden metrologische Verfahren für den EUV/XUV-Spektralbereich (λ=1…30nm) entwickelt. Dabei kommen hochangeregte laser-induzierte Plasmen als kompakte Strahlquellen zum Einsatz, die unabhängig von Synchrotronanlagen sowohl messtechnische Anwendungen (z.B. Spektroskopie, Reflexions­messungen, Stabilitätstests) als auch fundamentale Studien zur Wechselwirkung zwischen weicher Röntgenstrahlung und Materie ermöglichen.

• EUV/XUV-Laborquelle
• EUV-Optiken (Schwarzschild, Kirkpatrick-Baez)
• Nanostrukturierung mit EUV-Strahlung