Excimerlaser-Mikromaterialbearbeitungs-System ELMS

Das LLG entwickelt kundenspezifische Excimerlaser-Mikromaterialbearbeitungsstationen für Forschung, Lehre und Spezialanwendungen. Die verwendeten Systeme werden den speziellen Kundenwünschen angepasst und können für Wellenlängen im Bereich von 157 nm bis 308 nm optimiert werden. Die Integration der einzelnen Systemkomponenten erfolgt mit Hilfe einer LabVIEW-Ansteuerung und weist demzufolge einen hohen Automatisierungsgrad auf. Die Systeme enthalten je nach Bedarf die folgenden Module:

: F₂-Bearbeitungsstation beim Schreiben eines Liniengitters in Glas

Strahlformung (variabler Strahlabschwächer, Strahlhomogenisierer
Strahlanalysesystem (Energie, Profil)
Maskensysteme (variable Rechteckmaske, dielektrische Masken)
Maskenprojektionsoptik (Linsenoptik, Reflexionsobjektive)
Werkstückpositioniersystem (mehrere Translations-, Rotationsachsen)
Design- und Steuerungssoftware